?一、概念：

常見的塑膠產(chǎn)品電鍍加工工藝有二種：水電鍍和真空電鍍。真空電鍍是一種物理學堆積狀況。即在真空系統(tǒng)情況下引入氬氣瓶，氬氣碰撞靶材，靶材分離出來成分子結(jié)構(gòu)被導電性的貨物吸咐產(chǎn)生一層勻稱光潔的表面層。電鍍是在一定的金屬材料水溶液中，根據(jù)載入直流電流使金屬材料離子在負極表面井然有序堆積的全過程。

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真空電鍍和水電鍍的差別?

二、真空電鍍基本原理表明：

真空電鍍的表層的鍍膜常見方法分成真空泵蒸鍍(PVD)與真空濺鍍(SPUTTER)二種：

(1)真空泵蒸鍍(PVD)

此乃最初期之真空電鍍方式，是在相對高度真空泵情況下加溫金屬材料，使其熔化、揮發(fā)，制冷后在塑料表面產(chǎn)生金屬材料塑料薄膜的方式。其基本原理乃運用燈絲來當電級，當燈絲被通以電流量升溫至鋁金屬材料之溶點（700至800℃）時，這時置放到燈絲上之鋁金屬材料即被揮發(fā)為鋁原子團，這時鋁原子團再一層一層表面之被鍍物，因此制造亦被稱作PVD(PhysicalVaporDeposition)，物理學氣相色譜堆積。

(2)真空泵濺鍍(SPUTTER)

以幾十電子伏特或更高一些機械能的濃差極化顆粒負電子原材料表面，使其濺射出進到氣相色譜，可以用來離子注入和表層的鍍膜。出射一個離子所濺射出的分子數(shù)量稱之為濺射產(chǎn)額（Yield）產(chǎn)額越高濺射速率越快，以Cu，Au，Ag等最大，Ti，Mo，Ta，W等最少。一般在0.1-10分子/離子。離子可以直流電電弧放電（glowdischarge）造成，在兩方面間加髙壓造成充放電，正離子會負電子負電荷之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。正常的電弧放電（glowdischarge）的電流強度與負極化學物質(zhì)與樣子、汽體類型工作壓力等相關。濺鍍時應盡量保持其平穩(wěn)。一切原材料皆可濺射表層的鍍膜，即使高溶點原材料也非常容易濺鍍，但對導電介質(zhì)靶材須以微波射頻（RF）或單脈沖（pulse）濺射；且因?qū)щ娐瘦^弱，濺鍍輸出功率及速率較低。金屬材料濺鍍輸出功率可達10W/cm2，非金屬材料<5W/cm2

三、水電鍍制造介紹：

(1)鈍化處理：以鉻酸水溶液咬蝕塑料產(chǎn)品之表面，便捷下制造（敏化）之密著工作能力。

(2)敏化：以氯化鈀水溶液為媒體，讓鈀離子粘附于塑料之咬蝕面，便捷下制造之化學鎳密著。

(3)化學鎳：因塑料表面即使已粘附鈀離子，終究還是非導電性介面，故塑料表面經(jīng)化學鎳解決后，即成全方位導電性之插口，這時被鍍物（塑料）面可開展離子互換之電解法電鍍。

(4)電鍍銅：一般電解法電鍍習慣性以硝酸銀溶液來開展離子互換，因二價之銅離子較開朗，故非常容易讓活力鎳吸咐，這時與鎳離子中間所產(chǎn)生之凡得斯提力為較大，如再以交流電為媒體，更可加快其離子互換之速率。

(5)鍍鎳：此制造通常做為不銹鋼(Cr)以前解決，因六價鉻離子并不易粘附于銅離子，故在銅離子與鉻離子中間以鎳離子來當媒體。

(6)不銹鋼：一般之電鍍表面若想要高亮澤面，以鉻金屬材料為最好的選擇，因鉻金屬材料具備耐磨損擦，抗腐蝕之特點，故在電解法電鍍上常以鉻金屬材料為最終商品之外型，惟因六價鉻離子乃歸屬于高耗能之管控金屬材料，當六價鉻離子經(jīng)離子互換后所形成的三價鉻離子對生態(tài)環(huán)保有明顯的環(huán)境污染，特別是在對身體也是傷害甚巨，故在髙度進步的國家中已被禁止應用。

水電鍍因加工工藝較簡易，從機器設備到自然環(huán)境規(guī)定均沒有真空泵離子鍍嚴苛，進而被廣泛運用.但水電鍍有一個缺點，只有鍍ABS料和ABS+PC料（此料鍍的作用也不是很理想化），而ABS料耐高溫僅有80℃,這促使它的運用范疇被限定了。而真空電鍍可達200℃上下，這對應用在持續(xù)高溫的構(gòu)件就可以開展電鍍解決了。像風嘴、風嘴環(huán)應用PC料，這種組件均規(guī)定耐130℃的高溫。此外一般規(guī)定耐熱的構(gòu)件，做真空電鍍都需要在最終噴一層UV油，那樣促使商品表面不僅有光澤度、有耐熱、與此同時又確保粘合力。